Kisi Speċifiku tal-Film Protettiv tal-Bexx ultrasoniku Qabel Qtugħ tal-Wejfer tas-Silikon

 

 

 

Kisi speċifiku tal-film protettiv tal-bexx ultrasoniku qabel it-tqattigħ tal-wejfer tas-silikon ġie ppruvat li huwa metodu affidabbli, ripetibbli u effiċjenti għall-applikazzjoni ta 'diversi kimiċi għas-silikon qabel il-qtugħ, it-tħin u l-illustrar biex jipproteġu l-wejfer u l-ħotob. Sustanzi kimiċi komuni jinkludu Z-Coat, PMMA, u kimiċi oħra li jistgħu jitneħħew faċilment. Is-sistema taż-żennuna ta 'FUNSONIC tista' tiġi personalizzata biex tissodisfa r-rekwiżiti u l-isfidi speċifiċi tal-kisi tal-klijenti għal films protettivi qabel il-qtugħ tal-wejfer tas-silikon.
Il-kisja speċifika tal-film protettiv tal-bexx ultrasoniku qabel it-tqattigħ tal-wejfer tas-silikon jista 'jiġi applikat għal kwalunkwe forma jew daqs billi tikkontrolla l-ħxuna minn submicron għal aktar minn 100 mikron. Is-sistema tal-kisi hija alternattiva fattibbli għal teknoloġiji oħra tal-kisi bħall-bexx rotanti u tradizzjonali.

 

 

 

 

 

Iż-żennuni ultrasoniċi għandhom applikazzjonijiet importanti fl-ipproċessar tal-fotolitografija. Il-manifatturi tas-semikondutturi jużaw it-teknoloġija tal-bexx ultrasoniku biex jisprejjaw l-iżviluppatur tal-photoresist fuq substrati taċ-ċippa tal-arsenide tas-silikon u tal-gallju, li hija sustanza kimika li tista 'turi ċirkwiti ta' immaġini stepper ottiċi. Il-proċess tal-bexx jinvolvi li ddaħħal iż-żennuna 'l fuq miċ-ċippa, u mbagħad tikkontrolla ż-żennuna ultrasonika permezz ta' XYZ tliet -assi u mutur servo biex tqassam il-kisja b'mod uniformi. Peress li l-isprej taż-żennuna ultrasoniku huwa ġentili u kontinwu, jista 'jtejjeb l-attività kimika, itejjeb l-effiċjenza tal-iżvilupp, u jnaqqas ir-rebound u l-iskart materjali. Id-dejta turi li t-teknoloġija tal-bexx ultrasoniku tista 'tiffranka sa 70% tal-materjali u ttejjeb il-kontroll tad-dimensjonijiet kritiċi.
Meta mqabbel mal-kisja tal-ispin tas-soltu, il-qligħ taż-żennuni ultrasoniċi huwa li jistgħu jqassmu s-sustanzi b'mod akbar b'mod uniformi u jimminimizzaw id-dipendenza tad-distribuzzjoni tal-likwidu fuq it-tensjoni tal-art. Spin kisi tradizzjonali jinvolvi d-depożitu ta 'sustanzi fil-forma ta' għadajjar jew nixxigħat fuq element ta 'ċippa, u mbagħad tferrexhom fuq l-art permezz ta' forza ċentrifugali. Dan il-mod jeħtieġ manipulazzjoni speċifika tat-temperatura u l-ħlas ta 'evaporazzjoni tas-solvent biex tiżgura l-integrità u l-uniformità tal-kisi. Żennuni ultrasoniku, min-naħa differenti, atomize-drapp fuq l-art kollha taċ-ċippa biex structurea non--stop film skinny.Dan il-mod, m'hemmx bżonn li tikkunsidra l-evaporazzjoni tas-solvent u l-forzi tal-wiċċ, u mhux se jkun hemm sputtering jew depożizzjoni ta 'wara.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

It-tags Popolari: Film protettiv tal-bexx ultrasoniku kisja speċifika qabel it-tqattigħ tal-wejfer tas-silikon, iċ-Ċina tal-bexx ultrasoniku kisi protettiv tal-film speċifiku qabel il-qtugħ tal-wejfer tas-silikon, manifatturi, fabbrika